專注半導體行業
的儀器制造商和(he)服務商13584134215
簡要(yao)描述：AC200衍(yan)生機（顯影）全新外(wai)觀(guan)設計(ji),大氣,適(shi)配(pei)實驗(yan)室實驗(yan)操作，先進的設計(ji)理念,模塊(kuai)化設計(ji)。
所在(zai)城市：無錫市 廠(chang)商性質：生產廠家更新日期(qi)：2023-12-07訪 問(wen) 量：1578詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,石油 |
AC200衍生機（顯影）介(jie)紹：
新外觀衍生機(ji)尺寸：680*550*450mm（三種機型(xing)尺寸一致）
包(bao)裝(zhuang)用木箱包(bao)裝(zhuang)
轉速范圍：20-10000rpm
加(jia)速度可(ke)調(diao)范(fan)圍(wei)20-50000rpm/s
單步時長：3000s
時間分辨率：0.1s
可(ke)編輯100組100步程序，更多(duo)可擴(kuo)展(zhan)
AC200衍生機（顯影）大體說明可參照樣本上的寫，配件可以放一些標準載物盤，真空泵的圖片
自動滴膠(jiao)：
適用基片尺寸：小于1cm小(xiao)碎片及到8寸標準晶圓，非標準基片(pian)可定制載物盤
自動顯(xian)影(ying)：
適用(yong)基(ji)片尺寸：4/6/8寸標(biao)準晶圓，非標(biao)準基片(pian)可定制載物(wu)盤
顯影噴嘴距離基片高度(du)可調，可調范圍10-50mm
自動去邊(bian)：
適(shi)用基片尺寸(cun)：4/6/8寸標準晶圓
去(qu)(qu)邊(bian)(bian)精度：去(qu)(qu)除晶(jing)圓邊(bian)(bian)緣3±0.5mm
三個基本(ben)功(gong)能(neng)可添加背(bei)洗功(gong)能(neng)（供客戶選擇）
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